電子線マイクロアナライザ- 断面イオンミリング
- 実体顕微鏡
- 自動研磨装置
- 精密切断機
- プラズマクリーナー
- 金スパッタリング・カーボン蒸着装置
- ユニバーサルズーム顕微鏡
- 集束イオンビーム (Focused Ion Beam)
- 電界放出形走査電子顕微鏡
電子線マイクロアナライザ 株式会社島津製作所 EPMA-1720H
本装置は、細く絞った電子線束を試料表面に照射することで放射される特性X線の波長と強度をX線分光器で測定し、その微小部に含まれる元素を定性・定量する分析機器である。
電子銃はCeBix、分光器は5ch.-10個を備え、検出対象元素は5B〜92Uである。またカソードルミネッセンス分光装置(モノクロ型)や回転傾斜ステージ、薄膜定量分析等のオプションも装備している。
EPMA室
佐藤 徹哉(技術部)
3879
断面イオンミリング 株式会社日立ハイテクノロジーズ E-3500
本装置は、試料にアルゴンイオンビームを照射することで、試料上部に配置された遮蔽板端面に沿って平坦な断面を作製する装置である。
これにより、機械研磨や切削では取り除けない細かな傷や歪みを除去することが可能であり、主としてSEM、EPMA用の断面試料作製に用いる。
試料作製室
佐藤 徹哉(技術部)3879
実体顕微鏡 ライカマイクロシステムズ M205C
本装置は、実体顕微鏡の中でも高分解能を有し、1×対物レンズ、20.5X ズームで7.8倍〜160倍の観察が可能である。
本センターでは、断面イオンミリングE-3500用の高精度な位置決めに用いているが、一般的な観察にも利用している。
試料作製室
佐藤 徹哉(技術部)3879
自動研磨装置 ビューラー メタザーブ250 + ベクトルLC250
本装置は、顕微鏡観察用の試料(金属、セラミックス、鉱物等)を自動研磨する装置である。
研磨盤は8インチ、自動研磨用試料ホルダは、φ25およびφ32に対応可能である。
試料作製室
佐藤 徹哉(技術部)3879
精密切断機 ビューラー アイソメット
本装置は、顕微鏡観察用の試料(金属、セラミックス、鉱物等)を精密切断する装置である。
最大で32mmまでの切断が可能である。
試料作製室
佐藤 徹哉(技術部)3879
プラズマクリーナー YHS-R
本装置は、SEMやEPMAで観察を行う際に見られるハイドロカーボンによる試料汚染を、酸素プラズマにより除去する装置である。
試料作製室
佐藤 徹哉(技術部)3879
金スパッタリング・カーボン蒸着装置 株式会社日立ハイテクノロジーズ E-1010
非導電性物質をEPMA等で観察しようとすると、チャージアップが発生し観察が困難となる。このチャージアップを防止するためのコーティング装置である。非導電性試料にコーティングしたい材料をターゲット（本装置は金，白金，カーボン）として、数Paの低真空中で放電させると生成されたプラスイオンが陰極に入射して、ターゲットをスパッタする。この結果、ターゲット材料で試料表面がコーティングされる。
試料作製室
佐藤 徹哉(技術部)3879
ユニバーサルズーム顕微鏡 株式会社ニコンインステック MULTIZOOM AZ100
本装置は、垂直視で精細な観察画像が取得できるモノズームの光学顕微鏡である。
5〜500倍の倍率で透過照明及び反射照明の観察ができる。また、偏光板を備えており微分干渉観察が可能である。
試料作製室
佐藤 徹哉(技術部)3879
集束イオンビーム (Focused Ion Beam) 株式会社日立ハイテクノロジーズ NB5000
本装置は、SEMにイオン銃を装着させたもので、収束させたGaイオンビームを走査して試料表面の特定領域を研削加工するものである。
加工以外にも、特定領域へのC, Wの成膜やプローブによる試料の採取、イオンビーム照射により発生した二次電子を画像として観察することが可能である。さらに、反射電子検出器およびEBSD検出器も備えている。
FIB・FE-SEM室
山室 賢輝(技術部)3518
電界放出型走査電子顕微鏡 日本電子株式会社 JSM-7600F
ショットキー型電子銃、セミインレンズ方式の高分解能SEM である。
またジェントルビームを組み合わせることで、数百eV の低加速度で試料最表面の観察が可能。更にEDS による元素分析、各種検出器により様々な情報を選択取得することが可能な装置である。
FIB・FE-SEM室
志田 賢二(技術部)3518
